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化学品溶液浴槽在线监控系统(Online Chemical Bath Monitoring System)

本系统为分析监控系统,用于测定在制造半导体时在线使用的清洗试剂及气体中的无机金属污染物。

・试剂测定

在半导体的制造过程中,硅芯片的清洗过程非常重要。 清洗试剂中若含有金属杂质,会残留在芯片上而影响产品的合格率,所以监控极为重要,目前主要是使用ICP-MS(等离子体质谱仪)等分析系统进行离线分析。采用离线分析时,即使发生金属污染,也要在数个小时后才能发现问题,而在这段时间内早已制造了大量的残次品。所以在实践中,为了避免这类问题发生,不论是否受到污染,都会在一定周期内更换清洗试剂。本公司的浴槽在线监控系统,是将监控点设于清洗浴槽附近,采样模块将液态试剂样品干燥生成气溶胶 (Aerosol),通过PFA管道用载气(一般是氩气)运送到ICP-MS测定,目前最长传输距离可达一百米;利用设于ICP-MS附近的切换阀门可选择不同浴槽的样品以及待分析化学品的种类,并用ICP-MS自动测定并分析结果。目前最多可切换测定十条管道线或10个浴槽,几乎所有金属元素皆可受监控,监测污染含量级别可在10ppt以下。



線上軟體設計可適用於各種廠牌之ICP-MS。其具備的主要功能如下:

    • 自动绘制校正曲线(检查相关系数及最低灵敏度)
    • 对校正曲线自动再校正
    • 运用QC(质量管理)试样检查校正曲线(每隔一定的试样数再次进行检查)
    • 运用内标准元素检查灵敏度的增减
    • 设定试样溶液中杂质浓度两个阶段的上限值
    • 接受来自清洗浴槽信号的中断分析(清洗试剂更换前后等)
    • 每个浴槽的记录管理
    • 从浴槽采集试剂量的控制和管理
    • 试剂自动稀释功能
    • 即使酸、碱试剂混合仍可使用的智能功能
    .


  ●气体测定
 
氨气在半导体生产过程中用于生成氮化膜。但气体中若存在金属杂质会渗入氮化膜中,从而影响所制造产品的性能。 本公司的在线监控系统可将气体中的金属杂质捕捉到溶液中,并用ICP-MS进行自动分析。该系统可随时连续捕捉氨气,并在有多条气体管道时,会自动切换管道,依序进行分析,系统可监控100ng/m3级别的金属杂质。
 

本公司可依照顾客特定需求生产定制化的系统
系统可适用与各品牌的ICP-OES/ICP-MS联机使用
ガス測定イメージ






<照片:3_氨气在线>
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