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線上化學品溶液監控系統(Online Chemical Bath Monitoring System)

本系統為測定半導體製造線上使用之洗淨藥劑及氣體中之無機金屬汙染物之分析監控系統。

・藥劑測定

半導體製造過程中,矽晶圓的洗淨過程非常重要。 洗淨藥劑中若含有金屬雜質,會殘留在晶圓上而影響製品的良率,所以監控之進行極為重要,目前主要是使用ICP-MS(感應耦合電漿質譜儀)等分析系統進行離線分析。採用離線分析時,即使發生金屬污染,在數個小時後才會發現問題,而這段期間早已製造了大量的瑕疵品。所以在實務上,為了避免此種問題發生,不論洗淨藥劑是否受到污染,都會在一定周期內進行更換。本公司的線上監控系統,是將監控點設於洗淨藥劑槽附近,抽樣模組將液態樣品乾燥生成微細懸浮粒子(Aerosol),藉由載氣(一般是氬氣)運送,目前最長距離可達一百公尺;最後利用設於ICP-MS附近的切換閥門可選擇分析化學品的種類,並以ICP-MS自動分析結果。目前最多可切換測定十條線,幾乎所有含量為10ppt以下的金屬元素皆可監控。



線上軟體設計可適用於各種廠牌之ICP-MS。其具備的主要功能如下:

    • 自動製作校正曲線(檢查相關係數及最低靈敏度)
    • 校正曲線之自動再校正
    • 運用QC(品質管理)試樣檢查校正曲線(每個一定試樣數實施再檢查)
    • 運用內標準元素檢查靈敏度增減
    • 設定試樣溶液中雜質濃度之兩階段上限值
    • 接受來自洗淨藥劑槽信號之中斷分析(洗淨藥劑的更換前後等)
    • 每個藥劑槽履歷管理
    • 從藥劑槽採集藥劑量的控制、管理
    • 薬劑自動稀釋功能
    • 即使酸、鹼試劑混合仍可使用的智慧功能
    .


  ●氣體測定
 
氨氣使用於在晶圓上生成氮化膜。氣體中若存在雜質會滲入膜中,而影響製造物之性能。 本公司的線上監控系統是將氣體中的金屬雜質捕捉至溶液中,並以ICP-MS進行自動分析的系統。隨時連續捕捉氨氣,有數條管線時,會自動切換依序分析,可監控100ng/m3程度的金屬雜質。
 

可依照顧客需求客製化系統
適用各廠牌之ICP-OES/ICP-MS
ガス測定イメージ






<照片:3_氨氣線上>
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