”オンラインモニタリングシステム”のことなら、元素分析のトータルソリューション【株式会社イアス】にお任せください

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  オンラインモニタリングシステム
半導体製造ラインで用いられている洗浄薬液やガス中の金属不純物を測定するシステムです。
  薬液測定
  半導体製造工程においてシリコンウェーハの洗浄工程は非常に重要です。 洗浄薬液中に金属不純物が含まれているとウェーハに取り込まれ、製品の歩留りに影響を与えます。そのため、薬液をモニターすることは重要ですが、現状ではICP-MS等を用い、オフラインで分析されています。オフライン分析では、仮に金属汚染が生じても、問題発見までに数時間を要するために、その間に大量の不良品が製造されることになってしまいます。そのため、現実的には、このような問題を避けるために、洗浄薬液は汚染の有無にかかわらず一定周期で交換されています。  
弊社のオンラインモニタリングシステムは、洗浄薬液槽近くに設けられたサンプリングモジュールで生成した微細のエアロゾルをアルゴンガス気流に乗せて長距離(100 mまで)を移送し、ICP-MS近くに設けられた切替えバルブにて薬液を選択し、ICP-MSにて自動分析するシステムです。最大10ラインまで切替え測定ができ、ほとんどの金属元素で10 ppt以下のモニターが可能です。オンラインソフトウェアは各種メーカーのICP-MSに対応できるように設計されています。オンラインソフトウェアの持つ主な機能は次の通りです
 
  • 検量線の自動作成(相関係数および最低感度のチェック)
  • 検量線の自動再校正
  • QC(品質管理)試料による検量線チェック(一定試料数毎に再チェック)
  • 内標準元素による増・減感チェック
  • 試料溶液中不純物濃度レベルの2段階上限値設定
  • 洗浄薬液槽からの信号を受けての割り込み分析(洗浄薬液の交換前後等)
  • 薬液槽毎の履歴管理
  • 薬液槽からの薬液採取量の制御・管理
  • 薬液の自動希釈機能
  • 酸・アルカリ試料が混合しても使用可能なインテリジェント機能
  PFA製チューブでエアロゾルを100mまで移送可能
  日刊工業新聞(2008年10月3日付け)に『オンラインモニタリングシステム』の記事が掲載されました。
・・・ 掲載記事はこちら
   
  ガス測定
  アンモニアガスはウェーハ上に窒化膜を生成するのに使用されます。ガス中に不純物が存在すると膜の中に取り込まれ、製造物の性能に影響を及ぼすことになります。 ガス測定イメージ弊社のオンラインモニタリングシステムは、ガス中の金属不純物を溶液に捕集し、ICP-MSにて自動分析するシステムです。アンモニアガスは常時連続的に捕集され、複数ラインの場合には、自動切換えで、順次分析されます。100 ng/m 3レベルの金属不純物がモニターできます。
 
お客様のご要望に合わせたシステムの設計・製作をいたします。
各装置メーカー ICP-OES/ICP-MSに対応しております。
 
   
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