PRODUCT01
Expert™ : 全自動気相分解（VPD）装置
世界中の半導体関連工場で100台以上が稼働しています。ICP-MSと連結し、
Siウェーハ中金属不純物の全自動分析を実現した画期的な前処理装置です。
PS, FAB, LABモデルを揃え、目的に合わせたカスタムメイドで対応します。
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PRODUCT02
LAGM : レーザーアブレーション-GED-MSAGシステム
従来からあったレーザーアブレーションICP-MS法で問題であった定量性と
小型密閉系セルを解決した画期的なLA-ICP-MS装置です。
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PRODUCT03
CSI : オンラインモニタリングシステム
人の手を一切介さず、
遠距離のサンプリングポイントにおける薬液中の金属不純物を
pptレベルで自動連続監視するシステムです。
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PRODUCT04
ASAS II : オンライン自動標準液添加装置
ICP-MS分析において
標準液をオンラインで自動添加するシステムで、
外部検量線法、標準添加法に対応します。
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PRODUCT05
ASDM : 自動希釈付きオートサンプラー
超高純度の薬液をICP-MSで分析する場合、ICP-MSのインターフェースコーンへの
ダメージを避けるために薬液の希釈が必要になります。ASDMは、これらの薬液を
2～1,000倍自動的に希釈し、ASAS IIおよびICP-MSと組み合わせて全自動分析できる
システムです。
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PRODUCT06
GED : 気体中金属微粒子導入システム
気体をICP-MSに直接導入し、
その中に含まれる金属微粒子を直接分析できる導入系です。
環境分析や半導体分析に幅広く適用できます。
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PRODUCT07
MSAG : 金属標準エアロゾル発生ユニット
100%の効率で極少量の標準溶液をICP-MSプラズマに導入できる装置です。
ガス中不純物の定量や粒子状金属の粒径分布測定に最適です。
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